متاح للاستيراد
الشركة المصنعة:
السعر:
طلب عرض سعر
أسعار الجملة متاحة
شروط FOB و CIF و EXW متاحة
النقاط الرئيسية
- صنع في روسيا - مصمم للمتانة
- مناسب للبيئات الصعبة
- تكلفة ملكية أقل من البدائل الأوروبية
- طلبات الجملة متاحة مع خصومات على الكمية
- المساعدة في التوثيق والتخليص الجمركي مقدمة
الوصف
هذا semiconductor production equipment مصنوع في روسيا ومتاح للاستيراد إلى الأسواق العالمية. المنتجات الروسية معروفة بمتانتها وموثوقيتها ونسبة السعر إلى الأداء الممتازة.
للحصول على مواصفات المنتج التفصيلية، يرجى الاطلاع على علامة تبويب المواصفات. اتصل بفريقنا لطلب معلومات الأسعار والتوافر والشحن.
المواصفات
Width
2229 mm
Length
3725 mm
Height
2333 mm
Power consumption, max.
Built-in memory card slot, support microSD/SDHC/SDXC card (up to 256GB); manual recording/alarm recording kW
Weight
2050 kg
Loading/unloading module (4 cassettes)
1 pc
Photoresist module
1 pc
Anti-reflection coating module
1 pc
Photoresist developer module
1 pc
Megasonic processing module
1 pc
GMDS vapour processing module
1 pc
Floor type heat treatment module (3 plates)
2 pc
Floor type heat stabilisation module (3 plates)
2 pc
Cluster line transport system - centre robot
1 pc
Bed to accommodate laminar flow purified air supply modules
1 pc
Unit for setting technological programmes for processing and displaying information
1 pc
Cluster line operation control unit
1 pc
Auxiliary equipment for cluster line
1 pc
Unit for preparation and supply of reagents to working positions of modules
1 pc
Photoresist and developer thermal stabilisation and level control unit
1 pc
Unit for receiving and storing spent reagents
1 pc
ملاحظة: جميع المواصفات مقدمة من الشركة المصنعة وقد تخضع للتغيير. يرجى الاتصال بنا لتأكيد أحدث المواصفات قبل تقديم طلبك.
شارك متطلباتك للحصول على رد سريع!
رد فوري خلال 15 دقيقة
أفضل أسعار الجملة مضمونة
مباشرة من الشركة المصنعة
التسليم والدفع
شروط الشحن
وقت التسليم
الشحن البحري: 30-60 يوم (حسب الوجهة)
الشحن الجوي: 14-21 يوم (للطلبات العاجلة)
طرق الدفع
منتجات مماثلة قد تهمك
Industrial-oriented technological complex Cluster TM 200
عرض التفاصيل
Four-position vacuum unit for film deposition by magnetron sputtering and electron-beam evaporation method with airlock
عرض التفاصيل
MAGNETRON SPUTTERING VACUUM COATING PLANT WITH SLUICE LOADING FROM CASSETTE TO CASSETTE MAGNA TM 29
عرض التفاصيل
SMALL-SIZE VACUUM UNIT FOR FILM DEPOSITION BY MAGNETRON SPUTTERING OF MATERIAL ON SUBSTRATE MVU TM MAGNA 12
عرض التفاصيل
Installation for washing of radio-electronic assemblies on printed circuit boards
عرض التفاصيل
Vacuum spraying unit UVN-71P-3M-1
عرض التفاصيل
VACUUM MAGNETRON SPUTTERING MACHINE WITH SLUICE LOADING MAGNA TM 22
عرض التفاصيل
Vacuum spraying machine Oratoria 29M
عرض التفاصيل
VACUUM UNIT FOR PLASMA CHEMICAL ETCHING OF LAYERS WITH ICP SOURCE PLASMA TM 9
عرض التفاصيل
VACUUM MAGNETRON SPUTTERING MACHINE WITH SLUICE LOADING MAGNA TM 22
عرض التفاصيل
MAGNA TM 7 magnetron sputtering vacuum film spraying unit
عرض التفاصيل
Vacuum unit for reactive-ion layer etching with sluice loading PLASMA TM 7
عرض التفاصيلموردون موثوقون
جميع المنتجات يتم الحصول عليها مباشرة من المصنعين الروس المعتمدين
ضمان الجودة
المنتجات تلبي معايير الجودة الدولية مع الشهادات المناسبة
الشحن العالمي
حلول لوجستية موثوقة لتوصيل المنتجات إلى موقعك
مدفوعات آمنة
خيارات دفع آمنة متعددة لتسهيل المعاملات الدولية