Индивидуальная обработка подложек в одном технологическом цикле:
до Ø 150 мм – 1 шт.;
Измерение ВЧ смещения на ВЧ электроде – подложкодержателе
в диапазоне от 0 до 1000 В;
Регулирование и автоматическое поддержание уровня мощности
ВЧ в диапазоне 30 – 200 Вт;
Регулирование и автоматическое поддержание уровня мощности
ВЧ ICP источника плазмы в диапазоне 400 – 600 Вт;
Рабочие газы: Ar, SF₆, C₄F₈;
Безмасляная система откачки;
Микропроцессорная система управления;
Мощность потребления не более 5,5 кВт.
Напишите что вам нужно и получите предложения от проверенных поставщиков