Установку вакуумного напыления УВН-74П-3М-1, предназначена для
двухстороннего нанесения металлических пленок меди или алюминия с подслоем хрома на
поликоровые и ситалловые подложки методом термического вакуумного напыления при
производстве гибридно-пленочных микросхем.
Максимальное количество единовременно обрабатываемых подложек размером
60х48х(0,5…1,0) мм 40 шт.
Напыление адгезионного слоя хрома осуществляется с помощью резистивного
испарителя по контролю заданного сопротивления слоя на свидетеле.
Напыление остальных слоев осуществляется с помощью двух электронных
испарителей с кольцевым катодом по заданному времени.
Время достижения остаточного давления 4 х 10-4 Па в рабочей камере
после открытия высоковакуумного затвора не более 80 мин.
Установка обеспечивает:
-регулирование скорости вращения барабана с
подложками в диапазоне от 10 до 60 об/мин;
-нагрев барабана до 300 °С;
-контроль сопротивления свидетеля
напыления пленки на подложки в диапазоне от 0 до 25 кОм;
-...
Напишите что вам нужно и получите предложения от проверенных поставщиков