Реализуемые технологии нанесения:
-магнетронное нанесение тонких пленок:
-металлов, резистивных сплавов, других проводящих материалов;
-диэлектриков методом реактивного напыления;
-диэлектрических материалов методом высокочастотного магнетронного распыления.
Другие методы нанесения тонких пленок:
-термическое испарение с помощью резистивного испарителя;
-термическое испарение с помощью электронного нагрева (кольцевой катод);
-ионно-лучевое распыление
Установки обеспечивают:
cтабилизацию заданного расхода технологических газов по трем каналам и контроль расхода газа по каждому каналу;
автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки».
Установки могут быть укомплектованы набором технологических устройств:
магнетроны, источники ионов, термические испарители, устройства ионного распыления
и нагреватели.
Может быть произведена отработка технологии с последующим переносом
её на заказанную установку под технологию Заказчика.
Напишите что вам нужно и получите предложения от проверенных поставщиков