Назначение: Установка предназначена для нанесения слоев металлизации путем магнетронного распыления материала мишеней.
Максимальный диаметр обрабатываемых пластин, мм150
Количество одновременно обрабатываемых изделий при ⌀150 мм, шт.3
Предельное остаточное давление в рабочей камере (при закрытом шлюзе), Па9*10-5
Неравномерность пленки по толщине, %±5
Количество рабочих позиций карусели магнетрона, шт.4
Температура нагрева пластин, ˚С300
Количество магнетронов, шт.6
Диаметр мишени магнетрона, мм100
Мощность источника питания, кВт3
Количество источников питания магнетрона, шт.2
Минимальная энергия ионов от источника ионной очистки, эВ600
Максимальная энергия ионов от источника ионной очистки, эВ800
Частота вращения двухстепенного планетарного подложкодержателя, об/мин30
Количество газовых линий с регуляторами расхода газов, шт.2
Скорость откачки криогенного насоса по воздуху, л/с6500
Скорость откачки криогенного насоса по аргону, л/с5400
Скорость откачки...
Напишите что вам нужно и получите предложения от проверенных поставщиков