Установка вакуумного напыления УВН-74П-3М-2, предназначена для двухстороннего нанесения металлических пленок меди или алюминия с подслоем хрома на поликоровые и ситалловые подложки методом магнетронного вакуумного напыления при производстве гибридно-пленочных микросхем.
Электрическое питание магнетронов униполярное.
Максимальное количество единовременно обрабатываемых подложек размером 60х48х(0,5…1,0) мм 40 шт.
Напыление адгезионного слоя хрома осуществляется по контролю заданного сопротивления слоя на свидетеле.
Напыление проводящего слоя пленки осуществляется по заданному времени.
Время достижения остаточного давления 4 х 10-4 Па в рабочей камере после открытия высоковакуумного затвора не более 80 мин.
Установка обеспечивает:
-регулирование скорости вращения барабана с подложками в диапазоне от 10 до 60 об/мин.
-нагрев барабана до 300 °С.
-контроль сопротивления свидетеля напыления пленки на подложки в диапазоне от 0 до 25 кОм.
-мощность источника ионов до 200 Вт.
-мощ...
Напишите что вам нужно и получите предложения от проверенных поставщиков