Установка вакуумного напыления «Оратория 5-1», предназначена для нанесения
методом магнетронного напыления тонких пленок алюминия, легированного кремнием,
на кремниевые пластины диаметром 76 или 100 мм при производстве полупроводниковых
устройств и интегральных микросхем.
Вакуумная камера установки имеет четыре позиции обработки кремниевых пластин,
закрепляемых в трех подложкодержателях полусферической съемной кассеты:
- позиция 1 - предварительная очистка пластин в шлюзе;
- позиция 2 - нагрев пластин и обезгаживание;
- позиция 3 – первое одностороннее магнетронное напыление пленки на пластины;
- позиция 4 – второе одностороннее магнетронное напыление пленки на пластины.
На всех четырех позициях обеспечивается 2-степенное планетарное движение
кремниевых пластин за счет вращения полусферической кассеты относительно ее
центральной оси и вращения подложкодержателей.
Установка обеспечивает последовательный круговой шаговый перенос кассеты с
пластинами из позиции в позицию для...
Напишите что вам нужно и получите предложения от проверенных поставщиков