المنتجات — محطات ترسيب فراغي وكيمياء بلازما

Plasma-Chemical Deposition Vacuum System with ICP Source - Izofaz TM 200-01

نظام تفريغ البلازما الكيميائية للإيداع - إيزوفاز TM 200-01

SAR 337,500-1,350,000
ش.م نيتم 🇷🇺
الحد الأدنى: 1 piece 💬 دردش الآن
Four-Position Vacuum Coating System with Magnetron Sputtering MAGNA TM 5

نظام الطلاء بالفراغ بأربع وضعيات مع أنظمة رش مغناطيسية ماغنا TM 5

SAR 337,500-1,125,000
ش.م نيتم 🇷🇺
الحد الأدنى: 1 piece 💬 دردش الآن
Plasma Chemical Etching Vacuum System with ICP Source and Cassette Loading TM 300

نظام تفريغ البلازما الكيميائي للنقش مع مصدر ICP وتحميل الكاسيت TM 300

SAR 337,500-1,350,000
ش.م نيتم 🇷🇺
الحد الأدنى: 1 piece 💬 دردش الآن
Compact Vacuum Coating System for Magnetron Sputtering, Model MVU Magna 12

نظام طلاء فراغي مدمج بتقنية الرش المغنطيسي، موديل MVU Magna 12

SAR 337,500-1,125,000
ش.م نيتم 🇷🇺
الحد الأدنى: 1 piece 💬 دردش الآن
Compact Plasma Cleaning Vacuum System for Photoresist Removal and Sterilization TM 4

نظام فراغي كمبيوتري لتنظيف البلازما وإزالة الطلاء الضوئي TM 4

SAR 56,250-180,000
ش.م نيتم 🇷🇺
الحد الأدنى: 1 piece 💬 دردش الآن
Vacuum Coating System with Magnetron Sputtering and Cassette Loading MAGNA TM 29

نظام الطلاء الفراغي مع الرش المغنطروني وتحميل الكاسيت MAGNA TM 29

SAR 337,500-1,125,000
ش.م نيتم 🇷🇺
الحد الأدنى: 1 piece 💬 دردش الآن
Plasma Chemical Deposition Vacuum System with ICP Source and Cassette Loader

نظام فراغي لإيداع البلازما الكيميائية مع مصدر ICP

SAR 337,500-1,350,000
ش.م نيتم 🇷🇺
الحد الأدنى: 1 piece 💬 دردش الآن
Plasma Chemical Anisotropic Selective Etching System Plasma TM 200-01

نظام النقش الانتقائي الأنيسوتروبي الكيميائي بالبلازما TM 200-01

SAR 337,500-1,125,000
ش.م نيتم 🇷🇺
الحد الأدنى: 1 piece 💬 دردش الآن
Plasma Etching Vacuum System with ICP Plasma Source TM 9

نظام تفريغ البلازما الكيميائية للطبقات بمصدر بلازما ICP TM 9

SAR 337,500-1,125,000
ش.م نيتم 🇷🇺
الحد الأدنى: 1 piece 💬 دردش الآن